Huttinger 等离子体射频电源TruPlasma Match1000此类高频电源防患于未然：TruPlasma RF 3000 系列因坚固结构与效率而出众。因此，其最佳适用于稳定且可再现的等离子体工艺，例如应用于纯平显示屏、太阳能电池或半导体制造。这些电源安装在全球数以千计的应用中，以确保生产效率工艺结果。

TruPlasmaDC4010 (G2)脉冲等离子体电源TruPlasma DC 4000 (G2) 系列专为困难材料的直流反应溅射而开发。以脉冲式直流电工作的该款发生器经受住尤为严苛的 PVD （物理气相沉积）和 PECVD （等离子体增强化学气相沉积）工艺的考验，这些工艺对涂层质量与生产效率均有*要求。紧凑型直流电源可在脉冲与偏压模式下使用——亦即两种设备集于同一外壳！

TruPlasma Highpulse 4002直流等离子体电源 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列发生器可作为直流溅射电源的替代方案，无需改动即可用于现有磁控系统。其提供尤为抗腐蚀且耐磨损的硬质镀膜，因此是高功率脉冲磁控溅射应用的首要之选。

TruPlasma MF Serie7000中频等离子体电源通过 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列可以随时掌控工艺流程：此款电源的电弧管理和点火特性具优势，是用于大面积镀膜（Large Area Coating）以及双磁控溅射中高要求反应工艺流程的理想供电系统。与此同时，超过 90 % 的顶尖能量转化率和极为高效的冷却水管理系统确保*的运行经济性。

TruPlasma Bipolar 4010等离子电源新一代双极性脉冲发生器 TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) 系列工艺电源专为借助 PVD、PECVD 和反应溅射工艺的等离子体辅助镀膜技术而开发；在太阳能电池与半导体制造、耐磨装饰涂层涂覆以及建筑玻璃镀膜中，其凭借灵活可塑的输出信号的电弧管理提供出色结果。